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上海HMDS涂胶高温烘箱

产品特点:上海HMDS涂胶高温烘箱应用领域:在光刻工艺中,对硅片、晶元等基片的烘烤和表面进行HMDS的处理。作用:经过HMDS处理的晶元硅片降低了硅片接触角,进而降低了光刻涂胶时胶在硅片表面的匀开的难度,,提高了光刻胶和硅片 晶元的粘附性,降低了光刻的用量,提高了涂胶的均匀性。

更新时间:2024-04-03

产品型号:QSGW-550L

厂商性质:生产厂家

生产地址:上海浦东

产品详情

上海HMDS涂胶高温烘箱应用领域:在光刻工艺中,对硅片、晶元等基片的烘烤和表面进行HMDS的处理。作用:经过HMDS处理的晶元硅片降低了硅片接触角,进而降低了光刻涂胶时胶在硅片表面的匀开的难度,,提高了光刻胶和硅片 晶元的粘附性,降低了光刻的用量,提高了涂胶的均匀性。

产品优势

 上海HMDS涂胶高温烘箱的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移的一个重要工艺,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片、晶元的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

   增黏剂HMDS可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片、晶元表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用

工作原理

上海HMDS涂胶烘箱的原理: 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量和均匀性,提高光刻胶与硅片的黏附性。
使用方法

上海HMDS涂胶烘箱的一般工作流程:

   1.首先设定HMDS烘箱的工作温度。

   2.打开真空泵抽真空开关,待腔内真空度达到某一真空度后

   3.开始充入氮气,充到达到某一低真空度后,

   4.再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,

   5.开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。

   6.然后再次开始抽真空,

   7.加热HMDS管道,

   8.充入HMDS气体到达设定时间后,停止充入HMDS药液,

   9.三面加热箱体使温度达到150度左右

   10.进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。

   11.当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。

   12.充入氮气,完成整个作业过程。

   说明:去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表面生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻阻止其进一步反应

注: 尾气排放等:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到废气收集管道。 在无废气收集管道时需做专门处理。

产品资料

1 机外壳采用冷扎钢板喷塑处理,内胆为医用不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。

   2 箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。

   3 微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。

   4 智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。

  5 HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100级光刻间净化环境。

  6 HMDS管路加热功能,使HMDS液体进入箱体的前端管路加热,使转为HMDS气态时更易。

   7 低液报警装置,采用的红外液体感测器,能及时灵敏给出指令(当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能)

   8 温度与PLC联动保护功能(当PLC没有启动程序时,加温功能启动不了,相反加温功能启动时,PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能,发出警报)

  9整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316医用不锈钢材料,整体使用无缝焊接(避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害)

 

 参数规格

  1 内胆尺寸:650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;

  2 载物托架:2块

   3 室温+10℃-250℃ 控温范围:温度分辨率:0.1℃ 温度波动度:±0.5℃

  4 真空泵:油泵或无油真空泵。真空度:133pa,

  5 加热方式:腔体下部及两侧加温。加热器为外置加热板(防止一侧加热使的HMDS液进入箱体内不能完本转成气态)

  6 可放2寸晶圆片或4寸晶圆片;6寸晶圆片;8寸晶圆片等。

 7开箱温度可以由user自行设定来降低process时间(正常工艺在50分钟-120分钟(按产品所需而定烘烤时间),为正常工作周期不含降温时间(因降温时间为 常规降温);

 设计要点

安全保护措施:

   1、安全可靠的接地保护装置;工作室超温保护; 加热器短路保护。

  2 、独立的工作室超温保护(温度上限保护);

  3、加热器短路及过载保护;

   4、低液报警装置(当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能)

 5、温度与PLC联动保护功能(当PLC没有启动程序时,加温功能启动不了,相反

  加温功能启动时,PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能,发出警报)

   6、整个箱体使用无缝焊接(避免拼接导致HMDS液体外泄对人体的伤害)

 7、HMDS气体管路采用一体成型进口SUS316医用不锈钢材料(避免腐蚀外泄)。

 如果你对QSGW-550L上海HMDS涂胶高温烘箱感兴趣,想了解更详细的产品信息,填写下表直接与厂家联系:

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